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SC-MSC 磁控离子溅射镀膜仪
磁控离子溅射镀膜仪 是一款用于制备高质量金属薄膜的实验设备，采用磁控溅射技术，可在样品表面沉积均匀的金属膜层。设备操作简便，性能稳定，适用于材料科学、电子显微镜样品制备、半导体工艺等领域。
产品概述
技术规格
产品优势
产品应用
产品概述
磁控离子溅射镀膜仪 是一款用于制备高质量金属薄膜的实验设备，采用磁控溅射技术，可在样品表面沉积均匀的金属膜层。设备操作简便，性能稳定，适用于材料科学、电子显微镜样品制备、半导体工艺等领域。
技术规格
| 参数项 | 技术指标 |
| 真空系统 | 旋转机械泵（强泵） |
| 极限真空度 | 2 Pa |
| 抽速 | 50Hz: 8 m³/h；60Hz: 9.6 m³/h |
| 镀膜电流 | 最大 100 mA |
| 镀膜电压 | 20 Pa – 8 Pa |
| 抽真空时间 | |
| 真空计 | 数显真空计，量程 2×10³ mbar |
| 镀膜材料 | 镍、金、银、铂等 |
| 镀膜厚度 | 50 - 120 nm（需另购测厚仪） |
| 样品尺寸 | 直径 ≤ 50 ± 0.1 mm（单层） |
| 样品数量 | 1 个 |
| 电源 | AC 220V / 50Hz |
| 功率 | |
| 冷却方式 | 水冷（可选） |
| 设备尺寸 | 360 × 300 × 380 mm |
| 重量 | 45 kg |
产品优势
• 磁控溅射技术，镀膜均匀稳定
• 支持多种金属材料镀膜，适用性强
• 操作简便，适合教学与科研使用
• 抽真空速度快，提升实验效率
• 结构紧凑，占地面积小
• 可选水冷系统，提升设备稳定性
产品应用
• 材料科学研究与表面处理
• 电子显微镜样品制备
• 半导体器件工艺开发
• 金属薄膜电极制备
• 高校与科研机构实验教学
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