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氩离子抛光 697 (Ilion II)

氩离子抛光仪Ilion® II 是一款桌面型设备,用于制备截面样品,同时 利用宽束氩离子对样品进行平面抛光,以便样品在 SEM及其它设 备上进行检测分析。 Ilion II可对不同种类的材料进行抛光,包括复 合材料,以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金。 Ilion II 配有 WhisperLok®样品交换系统,可选配可控温液氮冷却台。 Ilion II 内置一个 10 英寸触摸屏,无论是新手还是专家级用户,都可提高了样品抛光过程的可控性及可重复性。数码变焦显微镜配合 Gatan DigitalMicrograph® 软件,可实现对样品抛光过程的实时监控 及彩色照片储存,以便在 SEM观察时对其进行检查和分析。
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产品概述

技术规格

产品优势

产品应用

产品概述

氩离子抛光仪Ilion® II 是一款桌面型设备,用于制备截面样品,同时 利用宽束氩离子对样品进行平面抛光,以便样品在 SEM及其它设 备上进行检测分析。 Ilion II可对不同种类的材料进行抛光,包括复 合材料,以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金。
Ilion II 配有 WhisperLok®样品交换系统,可选配可控温液氮冷却台。
Ilion II 内置一个 10 英寸触摸屏,无论是新手还是专家级用户,都可提高了样品抛光过程的可控性及可重复性。数码变焦显微镜配合 Gatan DigitalMicrograph® 软件,可实现对样品抛光过程的实时监控 及彩色照片储存,以便在 SEM观察时对其进行检查和分析。

技术规格

项目 技术规格
离子源  
离子枪 两支带稀土磁体的 Penning 离子枪
抛光角度(°) +10 至 -10(每支离子枪独立可调)
离子束能量(kV) 0.1 – 8.0
峰值离子电流密度(A/cm²) 10
在硅上的抛光速率(µm/h) 300(8.0 kV 下)
光束直径 通过气体流量控制器或放电电压调节
光束调制 单重或双重,可调或不调制
样品台  
样品尺寸(mm) 10 × 10 × 4
固定方式 Ilion 专利刀片
旋转速度(rpm) 0.5 – 6.0
观察系统 数字变焦显微镜
真空系统  
抽气配置 两级隔膜泵(前级)+ 80 L/s 涡轮拖曳泵
极限压力(torr) 5 × 10-6
工作压力(torr) 8 × 10-5
真空计 主腔:冷阴极式;后备泵:固态式
样品气锁 WhisperLok;样品交换时间 < 1 分钟
用户界面 10 吋彩色触摸屏,可进行完整参数控制与配方操作
尺寸与电源  
外形尺寸(mm) 575 × 495 × 615
装运重量(kg) 45
功耗(W) 工作 200;离子枪关闭 100
电源要求 通用 100/240 VAC,50/60 Hz
氩气压力(psi) 25

产品优势

利用样品交换室和液氮冷却载物台,为电子束敏感样品定制了快速工作流程
对抛光过程进行实时观察,期间使用了带数字成像功能的光学显微镜。可利用 Gatan 的 DigitalMicrograph® 软件存储和分析图像
10 英寸彩色触摸屏界面显示 Ilion® II 配方,确保操作中得到可重复的结果
极其适用制备阴极发光和 EBSD 等分析技术的无损表面,因为这些分析信号在样品的极表面产生

产品应用

•    低损伤表面处理:特别适用于阴极发光(CL)和电子背散射衍射(EBSD)等对表面质量敏感的分析技术
•    实时抛光监控:内置光学显微镜与数字成像系统,可搭配 Gatan 的 DigitalMicrograph® 软件进行图像存储和分析
•    快速处理敏感样品:真空加载舱与液氮冷台确保处理过程对光束敏感样品无损
•    精确可控的重复操作:10寸触控屏与配方系统实现一致性样品制备
•    典型样品应用:包括铜截面EBSD分析、CdTe太阳能电池晶界电活性研究、聚合物气凝胶处理、涂层颜料的CL成像等

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