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SC-ISC 离子溅射镀膜仪

离子溅射镀膜仪 是一款专用于电子显微镜样品前处理的镀膜设备,采用离子溅射技术在样品表面沉积导电金属膜层,有效提升成像质量。设备结构紧凑,操作简便,适用于科研院所、高校实验室及材料分析领域。
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产品概述

技术规格

产品优势

产品应用

产品概述

离子溅射镀膜仪 是一款专用于电子显微镜样品前处理的镀膜设备,采用离子溅射技术在样品表面沉积导电金属膜层,有效提升成像质量。设备结构紧凑,操作简便,适用于科研院所、高校实验室及材料分析领域。

技术规格

参数项 技术指标
真空泵类型 原装旋片式真空泵
抽速 50Hz: 8 m³/h;60Hz: 9.6 m³/h
极限真空度 ≤ 2 Pa
放电电流 0 - 20 mA
放电电压 30 - 7 Pa
工作真空度 达 2 Pa 所需时间 < 5 分钟
真空室尺寸 直径 120 mm,高度 2×10³ mbar
靶材尺寸 直径 50 mm
样品台尺寸 Φ15 - 120 mm(带刻度可调装载)
可镀材料 金、铂、钯、银、铜
样品台转速 0 - 1.0 mm/min(连续可调)
电源 AC 220V / 50Hz
功率 1500W
冷却方式 风冷
设备尺寸 360 × 300 × 380 mm
重量 45 kg

产品优势

•    离子溅射技术,镀膜均匀稳定
•    支持多种金属材料,适应性强
•    样品台尺寸可调,满足不同样品需求
•    抽真空速度快,提升实验效率
•    操作简便,适合教学与科研人员使用
•    风冷系统,维护方便,运行稳定

产品应用

•    电子显微镜样品制备
•    材料表面导电处理
•    金属膜层沉积实验
•    高校与科研机构教学演示
•    电化学分析前处理

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