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氩离子抛光685 （PECS II）
产品概述
技术规格
产品优势
产品应用
产品概述
利用宽幅氩离子束对样品进行抛光和镀膜处理，从而得到高质量的SEM 成像和分析结果。
精密刻蚀镀膜仪 (PECSTM)II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。
对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。
PECS II 是一款完全独立、结构紧凑的台式设 备。采用两个宽 束氩离子源对样品表面进行抛光， 去除损伤层，从而得到高 质量样品，用于在 SEM， 光镜或者扫描探针显微镜上进行成 像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。
PECS II 采用 WhisperLok®技术，可选 配温控液氮冷却台。该功能 有助于避免抛光过程 中产生的热量而导致的样品融化或者结构变 化。
PECS II内置了一个 10 英寸的触摸屏。无论新手还是专家级用户， 都可提高样品的加工可控性 及可重复性。数码变焦显微镜配合 DigitalMicrograph® 软件，可实现对样品加工过程的实时 监控及储 存彩色照片，这便于在SEM中进行样品检查和分析。
技术规格
| 项目 | 技术规格 |
| 离子源（Ion Source） | |
| 离子枪 | 两支带稀土磁体的 Penning 离子枪 |
| 抛光角度（°） | 0 – 18°（每支离子枪可独立调节） |
| 离子束能量（keV） | 0.1 – 8.0 |
| 峰值离子电流密度（mA/cm²） | 10 |
| 在硅上的抛光速率（µm/h） | 90 |
| 光束直径 | 可通过气体流量控制器或放电电压调节 |
| 光束调制 | 单重/双重，可调范围 |
| 样品台（Specimen Stage） | |
| 样品尺寸（直径 × 高 mm） | 32 × 15 |
| 旋转速度（rpm） | 1 – 6 |
| 观察系统（Viewing） | 数字变焦显微镜（可选，带 PC 和 DM 存储） |
| 真空系统（Vacuum） | |
| 抽气系统 | 两级隔膜泵 + 80 L/s 涡轮拖曳泵 |
| 极限压力（torr） | 5 × 10⁻⁶ |
| 工作压力（torr） | 8 × 10⁻⁵ |
| 真空计 | 主腔：冷阴极式；后备泵：固态式 |
| 样品气锁 | WhisperLok 技术 |
| 样品交换时间（min） | < 1 |
| 用户界面（User Interface） | 10 吋彩色触摸屏，支持完整参数控制与配方操作 |
| 尺寸与电源（Dimensions & Utilities） | |
| 外形尺寸（mm） | 575 × 495 × 615 |
| 装运重量（kg） | 45 |
| 功耗（W） | 工作 200；离子枪关闭 100 |
| 电源要求 | 通用 100 – 240 VAC，50 – 60 Hz |
| 氩气压力（psi） | 25 |
产品优势
全自动氩离子抛光系统适合用于制备 SEM 样品，可以得到无损的表面、横截面和镀层，以保护样品或克服非导电样品的荷电问题。
只需一次抽真空，就可现实对样品的抛光、刻蚀或镀膜
在低至 100 伏的电压下刻蚀，从而快速地得到无损样品表面
可制备直径高达 32 毫米的样品
在不暴露于空气的情况下，将样品从 PECS™ II 仪器转移到 SEM/FIB 或手套箱中（可选）
利用 Gatan 的 DigitalMicrograph® 软件存储和分析图像，数字光学成像
集成的 10 英寸彩色触摸屏显示和控制所有 PECS II 参数
产品应用
• 增强生物医用材料性能：改善锌锂合金的显微结构。
• 无损样品处理：对多孔锌合金进行铜镀层处理，保持材料完整性。
• 去除氧化层：清洁镁合金表面以获得清晰的EBSD数据。
• 提升EDS成像质量：控制样品表面形貌和厚度影响。
• 优化多相铝合金表面：实现高质量晶体学分析。
• 研究多相CoRe合金界面：用于复杂合金的相界分析。
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